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掩模版及其制备方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510744318.9
申请日：
2025-06-05
公开(公告)号：
CN120255265A
公开(公告)日：
2025-07-04
发明(设计)人：
罗先刚 赵博文 高平 张涛 尹邦超 徐建东 程官于行
申请人：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址：
610209 四川省成都市双流区光电大道1号
IPC主分类号：
G03F1/80
IPC分类号：
G03F1/54 G03F1/38 G03F1/68 G03F1/48
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
肖慧
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
北京市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-07-22 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/80申请日:20250605
2025-07-04 公开 公开
共 50 条
[1]
掩模版的形成方法及掩模版 [P]. 
姚军 ;
曹清晨 ;
刘峻 ;
胡小龙 ;
高峰 .
中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14
[2]
掩模版吸收层制备方法、掩模版及其制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
程官于行 ;
高平 ;
赵博文 ;
张涛 ;
郑博明 ;
赵泽宇 ;
王长涛 .
中国专利 :CN119805851B ,2025-12-12
[3]
掩模版吸收层制备方法、掩模版及其制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
高平 ;
程官于行 ;
赵博文 ;
张涛 ;
郑博明 ;
赵泽宇 ;
王长涛 .
中国专利 :CN119882342A ,2025-04-25
[4]
掩模版吸收层制备方法、掩模版及其制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
程官于行 ;
高平 ;
赵博文 ;
张涛 ;
郑博明 ;
赵泽宇 ;
王长涛 .
中国专利 :CN119805851A ,2025-04-11
[5]
掩模版结构和掩模版精度监控方法 [P]. 
杨坤 ;
居碧玉 ;
李亚洲 ;
刘伟林 ;
许文霞 ;
周国庆 ;
林宝 .
中国专利 :CN117666277A ,2024-03-08
[6]
一种掩模版及其制备方法 [P]. 
陈庆煌 ;
柯思羽 ;
刘志成 ;
曾暐舜 .
中国专利 :CN112882339A ,2021-06-01
[7]
掩模版清洁装置 [P]. 
张祥平 ;
李天慧 ;
黄晓橹 ;
龙海凤 .
中国专利 :CN208673040U ,2019-03-29
[8]
光掩模版缺陷处理设备、曝光机以及光掩模版缺陷处理方法 [P]. 
崔栽荣 ;
丁明正 ;
贺晓彬 ;
刘强 ;
王桂磊 .
中国专利 :CN114563924A ,2022-05-31
[9]
掩模版 [P]. 
林岳明 ;
季明华 .
中国专利 :CN114755898A ,2022-07-15
[10]
掩模版 [P]. 
崔丹丹 ;
裘立强 ;
王毅 .
中国专利 :CN216450605U ,2022-05-06
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