光掩模版缺陷处理设备、曝光机以及光掩模版缺陷处理方法

被引：0

申请号：

CN202011359397.5

申请日：

2020-11-27

公开(公告)号：

CN114563924A

公开(公告)日：

2022-05-31

发明(设计)人：

崔栽荣丁明正贺晓彬刘强王桂磊

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京辰权知识产权代理有限公司 11619

代理人：

李晶

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20201127
2022-05-31	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模版传送装置、掩模版处理设备及掩模版传送方法 [P].

梁贤石 ;

金成昱 ;

金帅炯 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111908124A ,2020-11-10

[2]

掩模版的再生处理方法及掩模版的再生处理设备 [P].

季明华 ;

蔡晓峰 ;

黄早红 .

中国专利 :CN117724291A ,2024-03-19

[3]

光刻掩模版以及掩模版图案成型方法 [P].

孟祥鹏 ;

孙延涛 ;

陈庆煌 ;

刘志成 .

中国专利 :CN113156760A ,2021-07-23

[4]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180A ,2021-10-01

[5]

掩模版的显影方法以及掩模版的显影装置 [P].

侯广杰 ;

叶小龙 .

中国专利 :CN112506010A ,2021-03-16

[6]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180B ,2024-01-26

[7]

相移掩模、制作光掩模的方法及制作掩模版的方法 [P].

陈俊郎 ;

涂志强 ;

杨世豪 .

中国专利 :CN108132578A ,2018-06-08

[8]

掩模版检测方法、装置、设备以及存储介质 [P].

杨勤丰 ;

何俊龙 ;

张锋 ;

廖文超 ;

张启顺 .

中国专利 :CN118961744B ,2025-07-04

[9]

掩模版检测方法、装置、设备以及存储介质 [P].

杨勤丰 ;

何俊龙 ;

张锋 ;

廖文超 ;

张启顺 .

中国专利 :CN118961744A ,2024-11-15

[10]

光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法 [P].

L·麦克金 ;

J·科布森 ;

A·H·J·坎普赫尤斯 .

中国专利 :CN111880376A ,2020-11-03

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