掩模版的显影方法以及掩模版的显影装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011594786.6

申请日：

2020-12-29

公开(公告)号：

CN112506010A

公开(公告)日：

2021-03-16

发明(设计)人：

侯广杰叶小龙

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

G03F730

代理机构：

深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331

代理人：

寇闯

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-16	公开	公开
2022-09-02	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/32 申请公布日:20210316
2021-04-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/32 申请日:20201229

共 50 条

[1]

一种光掩模版及提高光掩模版显影均匀性的方法 [P].

郭晨悦 ;

薛丽霞 ;

王怡鑫 ;

侯斌 ;

薛芫昕 ;

胡长青 .

中国专利 :CN118550152A ,2024-08-27

[2]

掩模版的形成方法及掩模版 [P].

姚军 ;

曹清晨 ;

刘峻 ;

胡小龙 ;

高峰 .

中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14

[3]

一种光刻掩模版两步显影方法 [P].

张奎 ;

王阳 ;

赵成强 ;

袁刚 .

中国专利 :CN120630607A ,2025-09-12

[4]

掩模版结构和掩模版精度监控方法 [P].

杨坤 ;

居碧玉 ;

李亚洲 ;

刘伟林 ;

许文霞 ;

周国庆 ;

林宝 .

中国专利 :CN117666277A ,2024-03-08

[5]

掩模版清洁装置 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

黄晓橹 ;

龙海凤 .

中国专利 :CN208673040U ,2019-03-29

[6]

带有环尺的掩模版 [P].

崔庆丰 .

中国专利 :CN2280935Y ,1998-05-06

[7]

凹槽掩模版的制作方法 [P].

王栋 ;

谢超 ;

侯广杰 .

中国专利 :CN113641078A ,2021-11-12

[8]

掩模版及其制备方法 [P].

罗先刚 ;

赵博文 ;

高平 ;

张涛 ;

尹邦超 ;

徐建东 ;

程官于行 .

中国专利 :CN120255265A ,2025-07-04

[9]

一种掩模版用显影液均匀喷洒装置 [P].

薛文卿 ;

李嘉 ;

何鹏 .

中国专利 :CN223513443U ,2025-11-04

[10]

光掩模版缺陷处理设备、曝光机以及光掩模版缺陷处理方法 [P].

崔栽荣 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

王桂磊 .

中国专利 :CN114563924A ,2022-05-31

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