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凹槽掩模版的制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110926627.X
申请日
:
2021-08-12
公开(公告)号
:
CN113641078A
公开(公告)日
:
2021-11-12
发明(设计)人
:
王栋
谢超
侯广杰
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
IPC主分类号
:
G03F180
IPC分类号
:
G03F168
G03F720
代理机构
:
深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331
代理人
:
欧志明
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-30
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/80 申请日:20210812
2021-11-12
公开
公开
共 50 条
[1]
图形转移方法和掩模版制作方法
[P].
朴世镇
论文数:
0
引用数:
0
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0
朴世镇
.
中国专利
:CN101989046A
,2011-03-23
[2]
掩模版的形成方法及掩模版
[P].
姚军
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姚军
;
曹清晨
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曹清晨
;
刘峻
论文数:
0
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0
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刘峻
;
胡小龙
论文数:
0
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0
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0
胡小龙
;
高峰
论文数:
0
引用数:
0
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0
高峰
.
中国专利
:CN109752930A
,2019-05-14
[3]
掩模版的显影方法以及掩模版的显影装置
[P].
侯广杰
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0
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侯广杰
;
叶小龙
论文数:
0
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0
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0
叶小龙
.
中国专利
:CN112506010A
,2021-03-16
[4]
一种灰度掩模版及其制作方法
[P].
王辉
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
王辉
.
中国专利
:CN117826521A
,2024-04-05
[5]
一种灰度掩模版及其制作方法
[P].
王辉
论文数:
0
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0
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
王辉
;
王雷
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
王雷
;
张雪
论文数:
0
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
张雪
.
中国专利
:CN118011724A
,2024-05-10
[6]
一种掩模板的制作方法
[P].
李春兰
论文数:
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李春兰
;
洪志华
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洪志华
;
戴海哲
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0
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戴海哲
;
谭景霞
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谭景霞
;
熊启龙
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0
熊启龙
;
邓振玉
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邓振玉
.
中国专利
:CN101916039A
,2010-12-15
[7]
掩模版及其制备方法
[P].
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机构:
罗先刚
;
赵博文
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机构:
中国科学院光电技术研究所
中国科学院光电技术研究所
赵博文
;
论文数:
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机构:
高平
;
论文数:
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机构:
张涛
;
尹邦超
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机构:
中国科学院光电技术研究所
中国科学院光电技术研究所
尹邦超
;
徐建东
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机构:
中国科学院光电技术研究所
中国科学院光电技术研究所
徐建东
;
程官于行
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0
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机构:
中国科学院光电技术研究所
中国科学院光电技术研究所
程官于行
.
中国专利
:CN120255265A
,2025-07-04
[8]
相移掩模的制作方法
[P].
居碧玉
论文数:
0
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0
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0
居碧玉
;
栾会倩
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0
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栾会倩
;
张丽娜
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张丽娜
;
王影
论文数:
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王影
;
王奇
论文数:
0
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0
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0
王奇
.
中国专利
:CN113589641A
,2021-11-02
[9]
相移掩模的制作方法
[P].
居碧玉
论文数:
0
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0
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0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
居碧玉
;
栾会倩
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0
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
栾会倩
;
张丽娜
论文数:
0
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0
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
张丽娜
;
王影
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
王影
;
王奇
论文数:
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
王奇
.
中国专利
:CN113589641B
,2024-03-19
[10]
掩模版
[P].
林岳明
论文数:
0
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林岳明
;
季明华
论文数:
0
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季明华
.
中国专利
:CN114755898A
,2022-07-15
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