图形转移方法和掩模版制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910056026.7

申请日：

2009-08-06

公开(公告)号：

CN101989046A

公开(公告)日：

2011-03-23

发明(设计)人：

朴世镇

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F738 G03F720 G03F114 G03F7039 G03F7038

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李丽

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20090806 授权公告日:20130529 终止日期:20200806
2012-12-05	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101479156220 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2009100560267 变更事项:申请人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:申请人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20121101
2011-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101068902757 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2009100560267 申请日:20090806
2011-03-23	公开	公开
2013-05-29	授权	授权

共 50 条

[1]

凹槽掩模版的制作方法 [P].

王栋 ;

谢超 ;

侯广杰 .

中国专利 :CN113641078A ,2021-11-12

[2]

一种灰度掩模版及其制作方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN117826521A ,2024-04-05

[3]

一种灰度掩模版及其制作方法 [P].

王辉 ;

王雷 ;

张雪 .

中国专利 :CN118011724A ,2024-05-10

[4]

掩模版的形成方法及掩模版 [P].

姚军 ;

曹清晨 ;

刘峻 ;

胡小龙 ;

高峰 .

中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14

[5]

金属光栅模版制作方法 [P].

赵泽宇 ;

侯德胜 ;

杜春雷 ;

王长涛 .

中国专利 :CN1740404A ,2006-03-01

[6]

相移掩模的制作方法 [P].

居碧玉 ;

栾会倩 ;

张丽娜 ;

王影 ;

王奇 .

中国专利 :CN113589641A ,2021-11-02

[7]

相移掩模的制作方法 [P].

居碧玉 ;

栾会倩 ;

张丽娜 ;

王影 ;

王奇 .

中国专利 :CN113589641B ,2024-03-19

[8]

复合掩模及其制作方法 [P].

何其旸 .

中国专利 :CN102314075B ,2012-01-11

[9]

掩模版及其制备方法 [P].

罗先刚 ;

赵博文 ;

高平 ;

张涛 ;

尹邦超 ;

徐建东 ;

程官于行 .

中国专利 :CN120255265A ,2025-07-04

[10]

复合掩模及其制作方法 [P].

何其旸 .

中国专利 :CN102314076B ,2012-01-11

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