一种光掩模版及提高光掩模版显影均匀性的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410754738.0

申请日：

2024-06-12

公开(公告)号：

CN118550152A

公开(公告)日：

2024-08-27

发明(设计)人：

郭晨悦薛丽霞王怡鑫侯斌薛芫昕胡长青

申请人：

西安微电子技术研究所

申请人地址：

710065 陕西省西安市雁塔区太白南路198号

IPC主分类号：

G03F1/68

IPC分类号：

G03F1/82

代理机构：

西安通大专利代理有限责任公司 61200

代理人：

张金玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

吉林省辽源市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-09-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/68申请日:20240612
2024-08-27	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模版的显影方法以及掩模版的显影装置 [P].

侯广杰 ;

叶小龙 .

中国专利 :CN112506010A ,2021-03-16

[2]

一种光掩模版夹具及光掩模版清洗机 [P].

田文强 ;

查思豪 ;

陈亚苓 ;

韩露露 ;

陈癸伏 ;

伊金龙 ;

易熊军 ;

耿超 .

中国专利 :CN222625703U ,2025-03-18

[3]

光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法 [P].

L·麦克金 ;

J·科布森 ;

A·H·J·坎普赫尤斯 .

中国专利 :CN111880376A ,2020-11-03

[4]

光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法 [P].

L·麦克金 ;

J·科布森 ;

A·H·J·坎普赫尤斯 .

美国专利 :CN111880376B ,2025-02-21

[5]

一种光刻掩模版两步显影方法 [P].

张奎 ;

王阳 ;

赵成强 ;

袁刚 .

中国专利 :CN120630607A ,2025-09-12

[6]

一种可拆卸的薄膜组件及光掩模版 [P].

魏自亮 ;

张哲玮 .

中国专利 :CN223092290U ,2025-07-11

[7]

掩模版的制作方法 [P].

樊小明 .

中国专利 :CN121069700A ,2025-12-05

[8]

一种掩模版及其制备方法 [P].

陈庆煌 ;

柯思羽 ;

刘志成 ;

曾暐舜 .

中国专利 :CN112882339A ,2021-06-01

[9]

掩模表面抗粘处理方法及掩模版复制方法 [P].

罗先刚 ;

尹邦超 ;

高平 ;

张加贝 ;

张涛 ;

赵博文 ;

程官于行 ;

徐建东 .

中国专利 :CN120044750A ,2025-05-27

[10]

灰度掩模版的制作方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN121091590A ,2025-12-09

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