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光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010303264.X
申请日：
2020-04-17
公开(公告)号：
CN111880376B
公开(公告)日：
2025-02-21
发明(设计)人：
L·麦克金 J·科布森 A·H·J·坎普赫尤斯
申请人：
恩智浦美国有限公司
申请人地址：
美国得克萨斯
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
G03F9/00
代理机构：
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人：
张小稳
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-02-21 授权 授权
共 50 条
[1]
光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法 [P]. 
L·麦克金 ;
J·科布森 ;
A·H·J·坎普赫尤斯 .
中国专利 :CN111880376A ,2020-11-03
[2]
掩模版的形成方法及掩模版 [P]. 
姚军 ;
曹清晨 ;
刘峻 ;
胡小龙 ;
高峰 .
中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14
[3]
掩模版结构和掩模版精度监控方法 [P]. 
杨坤 ;
居碧玉 ;
李亚洲 ;
刘伟林 ;
许文霞 ;
周国庆 ;
林宝 .
中国专利 :CN117666277A ,2024-03-08
[4]
相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P]. 
张哲玮 ;
高翌 ;
朱佳楠 .
中国专利 :CN113467180A ,2021-10-01
[5]
相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P]. 
张哲玮 ;
高翌 ;
朱佳楠 .
中国专利 :CN113467180B ,2024-01-26
[6]
掩模版修补方法及装置、掩模版修补控制设备和存储介质 [P]. 
高翌 ;
张哲伟 ;
林锦鸿 ;
王梅侠 ;
朱佳楠 .
中国专利 :CN113985696A ,2022-01-28
[7]
掩模版修补方法及装置、掩模版修补控制设备和存储介质 [P]. 
高翌 ;
张哲玮 ;
林锦鸿 ;
王梅侠 ;
朱佳楠 .
中国专利 :CN113985696B ,2024-07-19
[8]
相移掩模、制作光掩模的方法及制作掩模版的方法 [P]. 
陈俊郎 ;
涂志强 ;
杨世豪 .
中国专利 :CN108132578A ,2018-06-08
[9]
一种光掩模版及提高光掩模版显影均匀性的方法 [P]. 
郭晨悦 ;
薛丽霞 ;
王怡鑫 ;
侯斌 ;
薛芫昕 ;
胡长青 .
中国专利 :CN118550152A ,2024-08-27
[10]
光掩模版及其关键尺寸控制方法 [P]. 
张健澄 ;
马振振 .
中国专利 :CN119644667A ,2025-03-18
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