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掩模版吸收层制备方法、掩模版及其制备方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510226406.X
申请日：
2025-02-27
公开(公告)号：
CN119805851B
公开(公告)日：
2025-12-12
发明(设计)人：
罗先刚 程官于行 高平 赵博文 张涛 郑博明 赵泽宇 王长涛
申请人：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址：
610209 四川省成都市双流350信箱
IPC主分类号：
G03F1/58
IPC分类号：
G03F1/38
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
李婉婉
法律状态：
公开
国省代码：
北京市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-11 公开 公开
2025-04-29 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/58申请日:20250227
2025-12-12 授权 授权
共 50 条
[1]
掩模版吸收层制备方法、掩模版及其制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
程官于行 ;
高平 ;
赵博文 ;
张涛 ;
郑博明 ;
赵泽宇 ;
王长涛 .
中国专利 :CN119805851A ,2025-04-11
[2]
掩模版吸收层制备方法、掩模版及其制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
高平 ;
程官于行 ;
赵博文 ;
张涛 ;
郑博明 ;
赵泽宇 ;
王长涛 .
中国专利 :CN119882342A ,2025-04-25
[3]
掩模版及其制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
赵博文 ;
高平 ;
张涛 ;
尹邦超 ;
徐建东 ;
程官于行 .
中国专利 :CN120255265A ,2025-07-04
[4]
一种掩模版保护膜及其制备方法 [P]. 
潘国军 .
中国专利 :CN113534603A ,2021-10-22
[5]
亚分辨辅助图形修正掩模版及制备方法 [P]. 
罗先刚 ;
赵博文 ;
高平 ;
张涛 ;
赵泽宇 ;
王长涛 ;
王彦钦 ;
郑博明 .
中国专利 :CN119805849A ,2025-04-11
[6]
掩模版图的圆化失真修正方法及装置、掩模版及加工方法 [P]. 
罗先刚 ;
赵博文 ;
高平 ;
张涛 ;
赵泽宇 ;
张可璇 .
中国专利 :CN117539120A ,2024-02-09
[7]
一种掩模版用清洗液及其制备方法 [P]. 
林仕松 ;
林源 ;
王金财 .
中国专利 :CN119662346A ,2025-03-21
[8]
基于复合吸收层的电子束仿真方法及复合吸收层掩模版 [P]. 
罗先刚 ;
高平 ;
程官于行 ;
赵博文 ;
徐建东 ;
张加贝 .
中国专利 :CN120669485A ,2025-09-19
[9]
掩模版的优化方法、装置及曝光设备 [P]. 
傅俊隆 .
中国专利 :CN120871525A ,2025-10-31
[10]
一种掩模版表面光刻保护层、制备方法及应用 [P]. 
罗先刚 ;
刘玲 ;
高星月 ;
沈涛 ;
赵泽宇 .
中国专利 :CN121142891A ,2025-12-16
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