一种光刻掩模版

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421093852.5

申请日：

2024-05-17

公开(公告)号：

CN222420802U

公开(公告)日：

2025-01-28

发明(设计)人：

严世传

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F1/38

IPC分类号：

G03F1/48

代理机构：

北京市一法律师事务所 11654

代理人：

刘荣娟

法律状态：

授权

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-28	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻掩模版 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN108535953B ,2018-09-14

[2]

光刻掩模版以及掩模版图案成型方法 [P].

孟祥鹏 ;

孙延涛 ;

陈庆煌 ;

刘志成 .

中国专利 :CN113156760A ,2021-07-23

[3]

一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具 [P].

陈杰 ;

姜巍 .

中国专利 :CN210742673U ,2020-06-12

[4]

一种光刻掩模版铬膜厚度测量装置 [P].

王凡 .

中国专利 :CN217303807U ,2022-08-26

[5]

一种光刻掩模版两步显影方法 [P].

张奎 ;

王阳 ;

赵成强 ;

袁刚 .

中国专利 :CN120630607A ,2025-09-12

[6]

光刻掩模版的清洁方法及设备 [P].

徐佳 ;

宋晓辉 ;

梁明晓 .

中国专利 :CN118112886B ,2024-10-22

[7]

光刻掩模版的清洁方法及设备 [P].

徐佳 ;

宋晓辉 ;

梁明晓 .

中国专利 :CN118112886A ,2024-05-31

[8]

一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺 [P].

段辉高 ;

周宇 ;

陈雷 ;

樊夫 ;

胡跃强 ;

贾红辉 .

中国专利 :CN118550153A ,2024-08-27

[9]

一种用于投影光刻的掩模版及其制备方法 [P].

郭晨悦 ;

程鹏刚 ;

胡长青 ;

薛丽霞 ;

方娟 ;

苏峰军 .

中国专利 :CN118778350A ,2024-10-15

[10]

一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺 [P].

段辉高 ;

周宇 ;

陈雷 ;

樊夫 ;

胡跃强 ;

贾红辉 .

中国专利 :CN118550153B ,2025-11-28

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