光刻掩模版的清洁方法及设备

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专利类型
发明
申请号
CN202311642923.2
申请日
2023-12-01
公开(公告)号
CN118112886A
公开(公告)日
2024-05-31
发明(设计)人
徐佳 宋晓辉 梁明晓
申请人
无锡迪思微电子有限公司 华润微电子控股有限公司
申请人地址
214135 江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-6
IPC主分类号
G03F1/82
IPC分类号
代理机构
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
虞凌霄
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 无锡市
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共 50 条
[1]
光刻掩模版的清洁方法及设备 [P]. 
徐佳 ;
宋晓辉 ;
梁明晓 .
中国专利 :CN118112886B ,2024-10-22
[2]
光刻掩模版 [P]. 
官锡俊 .
中国专利 :CN108535953B ,2018-09-14
[3]
光刻掩模版以及掩模版图案成型方法 [P]. 
孟祥鹏 ;
孙延涛 ;
陈庆煌 ;
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[4]
光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机 [P]. 
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刘天棋 ;
徐月暑 ;
高金铭 ;
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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P·J·麦克尔赫尼 ;
J·T·瓦特 .
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