蚀刻方法及蚀刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910471001.7

申请日：

2019-05-31

公开(公告)号：

CN110581067A

公开(公告)日：

2019-12-17

发明(设计)人：

户田聪菊岛悟中込健小泽淑惠林军

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21311

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/311 申请日:20190531
2019-12-17	公开	公开

共 50 条

[1]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

桥本笃明 ;

隣嘉津彦 ;

小野洋平 ;

堤贤吾 ;

井上宽扬 .

日本专利 :CN116137226B ,2025-11-11

[2]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

日本专利 :CN113053745B ,2025-07-25

[3]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

中国专利 :CN113053745A ,2021-06-29

[4]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

户田聪 ;

成嶋健索 ;

高桥宏幸 .

中国专利 :CN105244270B ,2016-01-13

[5]

蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

白耀文 ;

唐攀 ;

李小平 .

中国专利 :CN101962774A ,2011-02-02

[6]

蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

杨楠 .

中国专利 :CN119542186A ,2025-02-28

[7]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

小风丰 ;

远藤光广 ;

植田昌久 ;

邹红罡 ;

宫崎俊也 ;

中村敏幸 .

中国专利 :CN101681829A ,2010-03-24

[8]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

齐藤进 ;

清水昭贵 .

中国专利 :CN1750237A ,2006-03-22

[9]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

大渕修三 .

中国专利 :CN1901152A ,2007-01-24

[10]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

秋山政宪 ;

松尾达彦 .

中国专利 :CN103046049A ,2013-04-17

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