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蚀刻方法及蚀刻装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200880012237.4
申请日
:
2008-06-19
公开(公告)号
:
CN101681829A
公开(公告)日
:
2010-03-24
发明(设计)人
:
小风丰
远藤光广
植田昌久
邹红罡
宫崎俊也
中村敏幸
申请人
:
申请人地址
:
日本神奈川县
IPC主分类号
:
H01L213065
IPC分类号
:
C23F400
H01L21683
H01L218246
H01L27105
代理机构
:
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人
:
王 琦;王珍仙
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-05-05
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001460727 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2008800122374 申请日:20080619
2010-03-24
公开
公开
2011-08-10
授权
授权
共 50 条
[1]
蚀刻方法及蚀刻装置
[P].
齐藤进
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0
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齐藤进
;
清水昭贵
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清水昭贵
.
中国专利
:CN1750237A
,2006-03-22
[2]
Si蚀刻方法及蚀刻装置
[P].
斋田喜孝
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斋田喜孝
;
山口雅司
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山口雅司
.
中国专利
:CN1276479C
,2004-04-21
[3]
蚀刻方法及蚀刻装置
[P].
胜沼隆幸
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胜沼隆幸
.
中国专利
:CN1628375A
,2005-06-15
[4]
蚀刻装置及蚀刻方法
[P].
阪井敏哉
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阪井敏哉
;
松田邦利
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松田邦利
;
中村昭平
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中村昭平
.
中国专利
:CN105244250B
,2016-01-13
[5]
蚀刻装置及蚀刻方法
[P].
隣嘉津彦
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
隣嘉津彦
;
井上宽扬
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
井上宽扬
;
小野洋平
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
小野洋平
;
朴俊唱
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
朴俊唱
;
金洹渶
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
金洹渶
.
日本专利
:CN118352213A
,2024-07-16
[6]
蚀刻方法及蚀刻装置
[P].
坂本雅人
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坂本雅人
;
石坂忠大
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石坂忠大
;
板谷刚司
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板谷刚司
.
中国专利
:CN110473782A
,2019-11-19
[7]
蚀刻装置及蚀刻方法
[P].
鸟井夏实
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鸟井夏实
;
永海幸一
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永海幸一
;
益田法生
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益田法生
;
铃木贵幸
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铃木贵幸
.
中国专利
:CN113594015A
,2021-11-02
[8]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
西塚哲也
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西塚哲也
.
中国专利
:CN100565816C
,2008-11-19
[9]
蚀刻方法以及蚀刻装置
[P].
须田隆太郎
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须田隆太郎
;
户村幕树
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户村幕树
.
中国专利
:CN114078700A
,2022-02-22
[10]
干式蚀刻装置及干式蚀刻方法
[P].
森川泰宏
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森川泰宏
;
邹红红
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邹红红
;
林俊雄
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林俊雄
.
中国专利
:CN101681830B
,2010-03-24
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