蚀刻装置及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110429107.8

申请日：

2021-04-21

公开(公告)号：

CN113594015A

公开(公告)日：

2021-11-02

发明(设计)人：

鸟井夏实永海幸一益田法生铃木贵幸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167 H01L213065

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;徐飞跃

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-02	公开	公开

共 50 条

[1]

Si蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

斋田喜孝 ;

山口雅司 .

中国专利 :CN1276479C ,2004-04-21

[2]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

小风丰 ;

远藤光广 ;

植田昌久 ;

邹红罡 ;

宫崎俊也 ;

中村敏幸 .

中国专利 :CN101681829A ,2010-03-24

[3]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

齐藤进 ;

清水昭贵 .

中国专利 :CN1750237A ,2006-03-22

[4]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

胜沼隆幸 .

中国专利 :CN1628375A ,2005-06-15

[5]

蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

阪井敏哉 ;

松田邦利 ;

中村昭平 .

中国专利 :CN105244250B ,2016-01-13

[6]

蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

隣嘉津彦 ;

井上宽扬 ;

小野洋平 ;

朴俊唱 ;

金洹渶 .

日本专利 :CN118352213A ,2024-07-16

[7]

蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

坂本雅人 ;

石坂忠大 ;

板谷刚司 .

中国专利 :CN110473782A ,2019-11-19

[8]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

西村荣一 ;

小嗣义 ;

山下扶美子 .

中国专利 :CN103219234A ,2013-07-24

[9]

干式蚀刻装置及干式蚀刻方法 [P].

森川泰宏 ;

邹红红 ;

林俊雄 .

中国专利 :CN101681830B ,2010-03-24

[10]

蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

白耀文 ;

唐攀 ;

李小平 .

中国专利 :CN101962774A ,2011-02-02

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