一种负压装置及离子束抛光机

被引：0

申请号：

CN202210451933.7

申请日：

2022-04-27

公开(公告)号：

CN114536113A

公开(公告)日：

2022-05-27

发明(设计)人：

范朦王玉鲁蒋毅杨龙范松如唐育元

申请人：

申请人地址：

620500 四川省眉山市仁寿县视高工业集中区

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

B24B1300

代理机构：

成都明涛智创专利代理有限公司 51289

代理人：

杜梦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-27	公开	公开
2022-07-29	授权	授权
2022-06-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 1/00 申请日:20220427

共 50 条

[1]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387B ,2024-04-09

[2]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387A ,2024-02-02

[3]

一种新型离子束抛光机 [P].

施春燕 .

中国专利 :CN211414576U ,2020-09-04

[4]

离子束抛光设备及应用其的离子束抛光方法 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN104907894A ,2015-09-16

[5]

一种离子束抛光装置 [P].

黄贺 ;

张瀛怀 ;

房圣桃 ;

李鑫 ;

梁棋翔 ;

张健 ;

叶铭堃 .

中国专利 :CN119238225A ,2025-01-03

[6]

离子束抛光设备 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN204771859U ,2015-11-18

[7]

一种离子束抛光机的腔体结构 [P].

施春燕 .

中国专利 :CN209811888U ,2019-12-20

[8]

一种高稳定双舱离子束抛光机 [P].

薛志鹏 ;

刘畅 ;

郭鑫垒 ;

卢珊 ;

亓帅帅 ;

林俊豪 ;

苗子健 ;

钟兴 .

中国专利 :CN120941148A ,2025-11-14

[9]

延长稳定工作时长的离子束抛光机 [P].

倪磊 ;

倪晋 .

中国专利 :CN107414609A ,2017-12-01

[10]

一种离子束抛光装备 [P].

张松林 .

中国专利 :CN222767939U ,2025-04-18

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