化学机械研磨抛光垫修整器

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610573553.5
申请日
2016-07-20
公开(公告)号
CN106002632A
公开(公告)日
2016-10-12
发明(设计)人
王晓靁 刘伯彦
申请人
申请人地址
361000 福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区翔岳路4号之1号厂房1层
IPC主分类号
B24B53017
IPC分类号
B24B3720
代理机构
厦门市新华专利商标代理有限公司 35203
代理人
李宁
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法 [P]. 
周瑞麟 ;
周至中 ;
郑忠義 ;
王信君 ;
洪煜超 .
中国专利 :CN108857866A ,2018-11-23
[2]
化学机械抛光垫修整器 [P]. 
宋健民 .
中国专利 :CN101094746A ,2007-12-26
[3]
化学机械抛光垫修整器 [P]. 
约瑟夫·史密斯 ;
安德鲁·加尔平 ;
克里斯托弗·沃戈 .
中国专利 :CN103688343A ,2014-03-26
[4]
化学机械抛光垫修整器 [P]. 
杨宗庆 ;
董光乾 ;
王伟东 ;
钱卫 ;
谢咸盛 .
中国专利 :CN202180415U ,2012-04-04
[5]
研磨垫修整器及化学机械研磨设备 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN222114716U ,2024-12-06
[6]
研磨垫修整器及化学机械研磨装置 [P]. 
杨俊男 .
中国专利 :CN114603483A ,2022-06-10
[7]
研磨垫修整器及化学机械研磨设备 [P]. 
杨俊铖 .
中国专利 :CN111203800A ,2020-05-29
[8]
研磨垫修整器及化学机械研磨设备 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN222269909U ,2024-12-31
[9]
研磨垫修整器及化学机械研磨装置 [P]. 
尹良宣 ;
高林 .
中国专利 :CN216859379U ,2022-07-01
[10]
研磨垫修整器及化学机械研磨装置 [P]. 
田得暄 ;
辛君 ;
林宗贤 ;
吴龙江 .
中国专利 :CN207448221U ,2018-06-05