防止静电聚集的光刻胶涂布机承载盘

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610100565.2

申请日：

2006-07-03

公开(公告)号：

CN101101446A

公开(公告)日：

2008-01-09

发明(设计)人：

郑瑞忠张谦圣

申请人：

申请人地址：

台湾省新竹市

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

G02F11333

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

赵燕力

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-02-24	授权	授权
2008-02-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-01-09	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶涂布机承载系统及具有该系统的光刻胶涂布机 [P].

张志豪 .

中国专利 :CN202257027U ,2012-05-30

[2]

光刻胶涂布机 [P].

郭亚内 ;

张建 ;

姜天明 .

中国专利 :CN307811768S ,2023-01-24

[3]

一种光刻胶涂布机构 [P].

陈晓光 ;

康小文 ;

于深 .

中国专利 :CN220872872U ,2024-04-30

[4]

光刻胶供给装置及涂布机 [P].

何文超 ;

陈聪文 ;

李俞廷 .

中国专利 :CN104281007A ,2015-01-14

[5]

一种光刻胶涂布机 [P].

张俊余 ;

吴金力 ;

张满意 ;

刘冲 .

中国专利 :CN205091542U ,2016-03-16

[6]

一种光刻胶涂布机 [P].

张俊余 ;

柳晓暖 .

中国专利 :CN206532079U ,2017-09-29

[7]

光刻胶涂覆方法及涂布机 [P].

刘文渠 ;

董立文 ;

党宁 ;

张锋 ;

王峰超 ;

吕志军 .

中国专利 :CN108196431A ,2018-06-22

[8]

具有药剂回收系统的光刻胶涂布机 [P].

徐飞 ;

彭建中 ;

李亚明 ;

高广修 ;

吴昌龙 ;

张良 .

中国专利 :CN206470532U ,2017-09-05

[9]

光刻胶涂布装置 [P].

潘昌雷 .

中国专利 :CN209231710U ,2019-08-09

[10]

具有药剂回收系统的光刻胶涂布机 [P].

徐飞 ;

彭建中 ;

李亚明 ;

高广修 ;

吴昌龙 ;

张良 .

中国专利 :CN106406031A ,2017-02-15

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