基座支撑装置及薄膜沉积设备

被引：0

申请号：

CN202222228061.6

申请日：

2022-08-23

公开(公告)号：

CN217895749U

公开(公告)日：

2022-11-25

发明(设计)人：

郑冬徐春阳

申请人：

申请人地址：

201210 上海市浦东新区自由贸易试验区张江路665号3层

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

C23C1644

代理机构：

上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286

代理人：

黄海霞

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-11-25	授权	授权

共 50 条

[1]

晶圆支撑装置及薄膜沉积设备 [P].

张启辉 ;

吴凤丽 ;

杨华龙 ;

赵坤 ;

高鹏飞 ;

朱晓亮 ;

杨天奇 ;

卜夺夺 .

中国专利 :CN223118548U ,2025-07-18

[2]

一种薄膜沉积设备用基座支撑机构 [P].

余波 ;

朱东海 ;

权太植 ;

蔡广云 .

中国专利 :CN212770953U ,2021-03-23

[3]

薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P].

朱志君 ;

王晖 ;

金京俊 .

中国专利 :CN120193262A ,2025-06-24

[4]

沉积环及薄膜沉积设备 [P].

王斌 ;

崔浩 ;

姚磐 ;

刘金 ;

张京晶 .

中国专利 :CN220952025U ,2024-05-14

[5]

一种晶圆支撑装置及薄膜沉积设备 [P].

靳坤鹏 ;

关帅 ;

吴凤丽 ;

林蓬涛 .

中国专利 :CN120060829A ,2025-05-30

[6]

磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备 [P].

杨玉杰 ;

张同文 ;

马新艳 ;

郑金果 ;

王宽冒 ;

郭浩 ;

贾强 .

中国专利 :CN207331049U ,2018-05-08

[7]

薄膜沉积腔及应用该薄膜沉积腔的薄膜沉积设备 [P].

许波 ;

曹立新 ;

范慧 ;

朱北沂 .

中国专利 :CN202576547U ,2012-12-05

[8]

薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P].

林俊成 .

中国专利 :CN112442683A ,2021-03-05

[9]

薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P].

骆金龙 .

中国专利 :CN113718219A ,2021-11-30

[10]

薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P].

许波 ;

曹立新 ;

范慧 ;

朱北沂 .

中国专利 :CN103103480A ,2013-05-15

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