晶圆支撑装置及薄膜沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421991551.4

申请日：

2024-08-15

公开(公告)号：

CN223118548U

公开(公告)日：

2025-07-18

发明(设计)人：

张启辉吴凤丽杨华龙赵坤高鹏飞朱晓亮杨天奇卜夺夺

申请人：

拓荆科技（上海）有限公司

申请人地址：

201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号10幢304室

IPC主分类号：

C23C16/458

IPC分类号：

C23C16/52 G01M99/00 G01M13/00

代理机构：

深圳市精英创新知识产权代理有限公司 44740

代理人：

林燕云

法律状态：

授权

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-18	授权	授权

共 50 条

[1]

晶圆支撑装置及其异常检测方法、薄膜沉积设备 [P].

张启辉 ;

吴凤丽 ;

杨华龙 ;

赵坤 ;

高鹏飞 ;

朱晓亮 ;

杨天奇 ;

卜夺夺 .

中国专利 :CN118880292A ,2024-11-01

[2]

一种晶圆支撑装置及薄膜沉积设备 [P].

靳坤鹏 ;

关帅 ;

吴凤丽 ;

林蓬涛 .

中国专利 :CN120060829A ,2025-05-30

[3]

一种晶圆薄膜沉积治具及晶圆薄膜沉积设备 [P].

白喜青 ;

颜吉祥 .

中国专利 :CN220999827U ,2024-05-24

[4]

晶圆承载结构及薄膜沉积设备 [P].

殷奇 ;

王卓 ;

常亮 ;

汤剑 .

中国专利 :CN222008013U ,2024-11-15

[5]

晶圆承载装置及薄膜沉积设备 [P].

何正鸿 ;

庞宏林 ;

高司政 ;

王新 .

中国专利 :CN222923235U ,2025-05-30

[6]

一种晶圆支撑机构、工艺腔室及薄膜沉积设备 [P].

任思达 ;

于海涛 ;

胡玉 ;

戚艳丽 .

中国专利 :CN221940617U ,2024-11-01

[7]

基座支撑装置及薄膜沉积设备 [P].

郑冬 ;

徐春阳 .

中国专利 :CN217895749U ,2022-11-25

[8]

晶圆薄膜沉积装置 [P].

张艳喆 ;

刘健 ;

李培培 ;

戚艳丽 .

中国专利 :CN114318305A ,2022-04-12

[9]

晶圆传片结构及薄膜沉积设备 [P].

陈新益 ;

黄明策 ;

野沢俊久 .

中国专利 :CN221940623U ,2024-11-01

[10]

晶圆旋转装置、薄膜沉积设备及刻蚀设备 [P].

张彭 .

中国专利 :CN221327686U ,2024-07-12

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