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嵌套结构电离室
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN200720195495.3
申请日
:
2007-11-05
公开(公告)号
:
CN201117620Y
公开(公告)日
:
2008-09-17
发明(设计)人
:
靳根
钱仲敏
陈明焌
任智强
任伟
申请人
:
申请人地址
:
030006山西省太原市学府街102号
IPC主分类号
:
H01J4702
IPC分类号
:
G01T100
代理机构
:
北京捷诚信通专利事务所
代理人
:
魏殿绅;庞炳良
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-12-22
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 47/02 申请日:20071105 授权公告日:20080917 终止日期:20161105
2008-09-17
授权
授权
共 50 条
[1]
电离室
[P].
张孝平
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张孝平
;
丁德甲
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丁德甲
;
乔中涛
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乔中涛
.
中国专利
:CN218241769U
,2023-01-06
[2]
耐冲击电离室用绝缘子
[P].
靳根
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靳根
;
钱仲敏
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钱仲敏
;
陈明焌
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陈明焌
;
任智强
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任智强
;
任伟
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任伟
.
中国专利
:CN201117621Y
,2008-09-17
[3]
电离室系统
[P].
吴金杰
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吴金杰
;
葛双
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葛双
;
王佳
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王佳
.
中国专利
:CN204790008U
,2015-11-18
[4]
电离室装置
[P].
王培玮
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王培玮
;
李婷
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李婷
;
吴金杰
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吴金杰
.
中国专利
:CN206114916U
,2017-04-19
[5]
阵列电离室探测装置
[P].
安继刚
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安继刚
;
周立业
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周立业
;
刘以思
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刘以思
.
中国专利
:CN1142425C
,2001-04-11
[6]
高稳定端面电离室
[P].
王三传
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王三传
;
陈三雄
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陈三雄
.
中国专利
:CN2684210Y
,2005-03-09
[7]
一种电离室
[P].
胡毅
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胡毅
;
王日中
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王日中
;
李元桥
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李元桥
;
田立朝
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田立朝
;
马燕云
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马燕云
;
胡朝辉
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胡朝辉
;
刘泉旺
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刘泉旺
;
曹嘉懿
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曹嘉懿
.
中国专利
:CN207817220U
,2018-09-04
[8]
超低本底α电离室
[P].
姚顺和
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姚顺和
;
杨巧玲
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杨巧玲
;
姚艳玲
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姚艳玲
;
吕晓侠
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吕晓侠
;
刁立军
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刁立军
;
陈细林
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陈细林
;
汪建清
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汪建清
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郭晓清
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郭晓清
;
孟军
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孟军
;
邢雨
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邢雨
.
中国专利
:CN204696075U
,2015-10-07
[9]
石墨圆饼电离室
[P].
王坤
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王坤
;
李涛
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李涛
;
金孙均
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金孙均
;
杨小元
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杨小元
.
中国专利
:CN204424202U
,2015-06-24
[10]
电离室护盖
[P].
刘吉福
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刘吉福
;
傅世楣
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傅世楣
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焦圣华
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焦圣华
;
闫锋
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闫锋
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高玉兵
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高玉兵
;
吴广生
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吴广生
;
韩献礼
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韩献礼
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中国专利
:CN211557756U
,2020-09-22
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