用于电解铜箔生产的电解液液位控制装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220429380.7

申请日：

2012-08-27

公开(公告)号：

CN202755079U

公开(公告)日：

2013-02-27

发明(设计)人：

叶敬敏叶铭

申请人：

申请人地址：

514759 广东省梅州市梅县雁洋镇文社广东嘉元科技股份有限公司

IPC主分类号：

C25D104

IPC分类号：

C25D2112

代理机构：

广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295

代理人：

黄为

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-13	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C25D 1/04 申请日:20120827 授权公告日:20130227
2013-02-27	授权	授权

共 50 条

[1]

用于制造电解铜箔的电解液 [P].

花房干夫 .

中国专利 :CN101978100A ,2011-02-16

[2]

一种电解铜箔生产用电解液自吸装置 [P].

温增勇 ;

夏洁 ;

熊雅 ;

黄平娜 ;

谢传毅 ;

郭桂良 .

中国专利 :CN204111877U ,2015-01-21

[3]

电解液供应装置及电解铜箔制造装置 [P].

金相裕 ;

崔玹彰 .

中国专利 :CN208038572U ,2018-11-02

[4]

一种电解铜箔液位自动控制装置 [P].

石晨 ;

左亚平 ;

杨元宋 .

中国专利 :CN114059106A ,2022-02-18

[5]

用于电解铜箔生产时抽吸电解液的虹吸罐结构 [P].

张永军 ;

林培楷 ;

任国栋 ;

王有仁 ;

付志煜 ;

艾灵儿 .

中国专利 :CN119098454A ,2024-12-10

[6]

电解液、电解铜箔及其制造方法 [P].

邹明仁 ;

黄金城 ;

林士晴 .

中国专利 :CN108505076B ,2018-09-07

[7]

一种电解铜箔的电解液添加剂、电解液、电解铜箔及其制备方法 [P].

胡浩 ;

宋克兴 ;

代明伟 ;

程浩艳 ;

张彦敏 .

中国专利 :CN113481551B ,2021-10-08

[8]

电解铜箔真空上液装置 [P].

周佩君 ;

杨忠岩 ;

孟基中 ;

黄林 ;

刘吉扬 ;

廖承坤 ;

刘俊斌 .

中国专利 :CN203625504U ,2014-06-04

[9]

一种电解铜箔用电解液生产装置 [P].

毛伟鸿 .

中国专利 :CN214106940U ,2021-09-03

[10]

电解铜箔用电解液及其制备铜箔的方法、铜箔 [P].

高晓航 ;

谢文宾 ;

尹卫华 .

中国专利 :CN119710840A ,2025-03-28

← 1 2 3 4 5 →