耐高压的绝缘体上的硅型半导体器件

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专利类型
发明
申请号
CN00131700.8
申请日
2000-08-30
公开(公告)号
CN1288264A
公开(公告)日
2001-03-21
发明(设计)人
上本康裕 山下胜重 三浦孝
申请人
申请人地址
日本大阪府
IPC主分类号
H01L2712
IPC分类号
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
叶恺东
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
耐高压的绝缘体上的硅型半导体器件 [P]. 
上本康裕 ;
山下胜重 ;
三浦孝 .
中国专利 :CN1638146A ,2005-07-13
[2]
体约束的绝缘体上硅半导体器件及其制造方法 [P]. 
拜扬·W·民 ;
迈克尔·A·门迪奇诺 ;
莱格·康 .
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[3]
硅绝缘体结构半导体器件 [P]. 
A·O·阿丹 .
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[4]
制造绝缘体上硅衬底和半导体器件的方法 [P]. 
神保安弘 ;
小路博信 ;
大沼英人 ;
山崎舜平 .
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[5]
具有混合掺杂区的绝缘体上硅半导体器件 [P]. 
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杨超源 .
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[6]
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[7]
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[8]
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G·多恩波斯 ;
Y·波诺马雷夫 ;
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[9]
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[10]
半绝缘体上硅半导体器件及其制造方法 [P]. 
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