真空压力控制装置和微波等离子体化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810408636.8

申请日：

2018-05-02

公开(公告)号：

CN108517556A

公开(公告)日：

2018-09-11

发明(设计)人：

马懿马修·L·斯卡林朱金华吴建新缪勇卢荻艾永干克里斯托弗·E·格里芬

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚旧金山12号大街1467号

IPC主分类号：

C30B2502

IPC分类号：

C30B2904

代理机构：

南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256

代理人：

王锋;王茹

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-19	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B 25/02 申请公布日:20180911
2018-09-11	公开	公开
2018-10-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 25/02 申请日:20180502

共 50 条

[1]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN209522921U ,2019-10-22

[2]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN209522923U ,2019-10-22

[3]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN111910170B ,2025-01-14

[4]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

涂溶 ;

徐伟清 ;

章嵩 ;

张联盟 .

中国专利 :CN105239057A ,2016-01-13

[5]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

松山深照 .

中国专利 :CN1026133C ,1990-06-27

[6]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN208167149U ,2018-11-30

[7]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱铧丞 ;

杨阳 ;

黄卡玛 .

中国专利 :CN211947216U ,2020-11-17

[8]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN111910170A ,2020-11-10

[9]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

唐挺 ;

刘艺昭 ;

王曙光 .

中国专利 :CN307770853S ,2023-01-03

[10]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 .

中国专利 :CN209522922U ,2019-10-22

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