一种等离子刻蚀机反应室

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201922052843.7

申请日：

2019-11-25

公开(公告)号：

CN211016991U

公开(公告)日：

2020-07-14

发明(设计)人：

廖海涛孙文彬

申请人：

申请人地址：

214000 江苏省无锡市新吴区金城东路333-1-403

IPC主分类号：

H01J3702

IPC分类号：

H01J37305 G10K11162

代理机构：

常州唯思百得知识产权代理事务所(普通合伙) 32325

代理人：

金辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-14	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子刻蚀机反应室 [P].

成秋云 ;

禹庆荣 ;

吴得轶 .

中国专利 :CN202871741U ,2013-04-10

[2]

等离子刻蚀机 [P].

张小林 ;

白家均 ;

刘文慧 .

中国专利 :CN209216915U ,2019-08-06

[3]

一种等离子刻蚀机 [P].

孙显强 .

中国专利 :CN205944037U ,2017-02-08

[4]

一种多腔室等离子刻蚀机 [P].

马立 ;

蒋秀林 ;

汤海洋 .

中国专利 :CN209675236U ,2019-11-22

[5]

一种挡环装置、等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘小波 ;

陈兆超 ;

车东晨 ;

叶联 ;

刘磊 ;

刘海洋 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN117352355A ,2024-01-05

[6]

一种等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘海洋 ;

王铖熠 ;

李娜 ;

刘小波 ;

张军 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN211629034U ,2020-10-02

[7]

一种干法等离子刻蚀机的反应腔 [P].

张钦亮 ;

平志韩 ;

苏静洪 ;

王谟 ;

俞敏人 .

中国专利 :CN203377195U ,2014-01-01

[8]

一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机 [P].

全宰弘 ;

陈欣鑫 .

中国专利 :CN221125876U ,2024-06-11

[9]

一种微波等离子刻蚀机 [P].

袁稳 ;

郑华 ;

王政磊 .

中国专利 :CN220432028U ,2024-02-02

[10]

一种等离子刻蚀机夹具 [P].

程书萌 ;

刘婷婷 .

中国专利 :CN216120205U ,2022-03-22

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