一种多腔室等离子刻蚀机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920234290.4

申请日：

2019-02-25

公开(公告)号：

CN209675236U

公开(公告)日：

2019-11-22

发明(设计)人：

马立蒋秀林汤海洋

申请人：

申请人地址：

225131 江苏省扬州市扬州经济开发区建华路1号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J3730 H01J37305 H01J3718 H01L21677 H01L2167

代理机构：

广州知友专利商标代理有限公司 44104

代理人：

李海波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-22	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子刻蚀机反应室 [P].

成秋云 ;

禹庆荣 ;

吴得轶 .

中国专利 :CN202871741U ,2013-04-10

[2]

一种多腔室等离子刻蚀机用可移动支架 [P].

朱燕 .

中国专利 :CN215735451U ,2022-02-01

[3]

一种操作简便的多腔室等离子刻蚀设备 [P].

朱慧 ;

蒋青成 .

中国专利 :CN215418098U ,2022-01-04

[4]

一种等离子刻蚀机反应室 [P].

廖海涛 ;

孙文彬 .

中国专利 :CN211016991U ,2020-07-14

[5]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973A ,2024-09-20

[6]

一种挡环装置、等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘小波 ;

陈兆超 ;

车东晨 ;

叶联 ;

刘磊 ;

刘海洋 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN117352355A ,2024-01-05

[7]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973B ,2025-06-17

[8]

一种干法等离子刻蚀机的反应腔 [P].

张钦亮 ;

平志韩 ;

苏静洪 ;

王谟 ;

俞敏人 .

中国专利 :CN203377195U ,2014-01-01

[9]

等离子刻蚀机 [P].

张小林 ;

白家均 ;

刘文慧 .

中国专利 :CN209216915U ,2019-08-06

[10]

一种等离子刻蚀机 [P].

孙显强 .

中国专利 :CN205944037U ,2017-02-08

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