一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410903839.X

申请日：

2024-07-08

公开(公告)号：

CN118675973B

公开(公告)日：

2025-06-17

发明(设计)人：

陆桥宏何东旺曹俊薛燕

申请人：

江苏籽硕科技有限公司

申请人地址：

225300 江苏省泰州市医药高新技术产业开发区经济开发区创新创业产业园三期4号电子厂房1层、2层

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

南京禾祁专利代理事务所(普通合伙) 32462

代理人：

孟捷

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河北省保定市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-11	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20240708
2024-09-20	公开	公开
2025-06-17	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973A ,2024-09-20

[2]

等离子体刻蚀机 [P].

伍波 ;

张勇 ;

李果山 .

中国专利 :CN201194232Y ,2009-02-11

[3]

等离子体刻蚀机 [P].

刘波 ;

单书珊 ;

乔彦彬 ;

李建强 ;

陈燕宁 ;

张海峰 .

中国专利 :CN208444807U ,2019-01-29

[4]

等离子体刻蚀机 [P].

邱勇 ;

刘海洋 ;

李娜 ;

王铖熠 ;

侯永刚 ;

陈兆超 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN111383888A ,2020-07-07

[5]

等离子体刻蚀机 [P].

王长梗 .

中国专利 :CN306033696S ,2020-09-04

[6]

等离子体刻蚀机反应腔的内衬及等离子体刻蚀机反应腔 [P].

李娜 ;

胡冬冬 ;

程实然 ;

许开东 .

中国专利 :CN206432234U ,2017-08-22

[7]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[8]

一种挡环装置、等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘小波 ;

陈兆超 ;

车东晨 ;

叶联 ;

刘磊 ;

刘海洋 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN117352355A ,2024-01-05

[9]

一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法 [P].

胡德立 .

中国专利 :CN114464517A ,2022-05-10

[10]

等离子体刻蚀机台 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN203895414U ,2014-10-22

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