等离子体刻蚀机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811612749.6

申请日：

2018-12-27

公开(公告)号：

CN111383888A

公开(公告)日：

2020-07-07

发明(设计)人：

邱勇刘海洋李娜王铖熠侯永刚陈兆超胡冬冬许开东

申请人：

申请人地址：

221300 江苏省徐州市邳州市经济开发区辽河西路8号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京得信知识产权代理有限公司 11511

代理人：

袁伟东;阿苏娜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-07	公开	公开
2020-07-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20181227
2022-03-11	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体刻蚀机 [P].

伍波 ;

张勇 ;

李果山 .

中国专利 :CN201194232Y ,2009-02-11

[2]

等离子体刻蚀机 [P].

刘波 ;

单书珊 ;

乔彦彬 ;

李建强 ;

陈燕宁 ;

张海峰 .

中国专利 :CN208444807U ,2019-01-29

[3]

等离子体刻蚀机 [P].

王长梗 .

中国专利 :CN306033696S ,2020-09-04

[4]

等离子体刻蚀机台 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN203895414U ,2014-10-22

[5]

等离子体刻蚀机的装载系统 [P].

张钦亮 ;

平志韩 ;

苏静洪 ;

王谟 ;

陈骝 .

中国专利 :CN203205377U ,2013-09-18

[6]

等离子体刻蚀机的装载系统 [P].

张钦亮 ;

平志韩 ;

苏静洪 ;

王谟 ;

陈骝 .

中国专利 :CN103219218B ,2013-07-24

[7]

等离子体刻蚀机反应腔的内衬及等离子体刻蚀机反应腔 [P].

李娜 ;

胡冬冬 ;

程实然 ;

许开东 .

中国专利 :CN206432234U ,2017-08-22

[8]

等离子体刻蚀机的预真空腔 [P].

胡冬冬 ;

李娜 ;

车东辰 .

中国专利 :CN206098342U ,2017-04-12

[9]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[10]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973B ,2025-06-17

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