一种多腔室等离子刻蚀机用可移动支架

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202122089984.3

申请日：

2021-09-01

公开(公告)号：

CN215735451U

公开(公告)日：

2022-02-01

发明(设计)人：

朱燕

申请人：

申请人地址：

226361 江苏省南通市通州区平东镇工业园区西环路18号

IPC主分类号：

H05K718

IPC分类号：

H01J3702 H01J37305

代理机构：

北京智行阳光知识产权代理事务所(普通合伙) 11738

代理人：

谭波

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-01	授权	授权

共 50 条

[1]

一种多腔室等离子刻蚀机 [P].

马立 ;

蒋秀林 ;

汤海洋 .

中国专利 :CN209675236U ,2019-11-22

[2]

一种操作简便的多腔室等离子刻蚀设备 [P].

朱慧 ;

蒋青成 .

中国专利 :CN215418098U ,2022-01-04

[3]

等离子刻蚀机反应室 [P].

成秋云 ;

禹庆荣 ;

吴得轶 .

中国专利 :CN202871741U ,2013-04-10

[4]

一种等离子刻蚀机反应室 [P].

廖海涛 ;

孙文彬 .

中国专利 :CN211016991U ,2020-07-14

[5]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973A ,2024-09-20

[6]

一种挡环装置、等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘小波 ;

陈兆超 ;

车东晨 ;

叶联 ;

刘磊 ;

刘海洋 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN117352355A ,2024-01-05

[7]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973B ,2025-06-17

[8]

一种干法等离子刻蚀机的反应腔 [P].

张钦亮 ;

平志韩 ;

苏静洪 ;

王谟 ;

俞敏人 .

中国专利 :CN203377195U ,2014-01-01

[9]

一种等离子刻蚀机 [P].

孙显强 .

中国专利 :CN205944037U ,2017-02-08

[10]

一种等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘海洋 ;

王铖熠 ;

李娜 ;

刘小波 ;

张军 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN211629034U ,2020-10-02

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