一种193nm光刻胶成膜树脂及其制备方法和正型光刻胶组合物

被引：0

申请号：

CN202210070846.7

申请日：

2022-01-21

公开(公告)号：

CN114874384A

公开(公告)日：

2022-08-09

发明(设计)人：

曾伟

申请人：

申请人地址：

226661 江苏省南通市安市曲塘镇双工路29号

IPC主分类号：

C08F22028

IPC分类号：

C08F22018 G03F7039

代理机构：

连云港中联润智专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 32572

代理人：

严敏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-09	公开	公开
2022-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/28 申请日:20220121

共 50 条

[1]

一种193nm分子玻璃光刻胶及其制备方法 [P].

曾伟 .

中国专利 :CN114721221A ,2022-07-08

[2]

一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物 [P].

季生象 ;

刘亚栋 ;

李小欧 ;

顾雪松 .

中国专利 :CN113214429B ,2021-08-06

[3]

一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112876602A ,2021-06-01

[4]

含倍半萜的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

孙友松 ;

贺宝元 .

中国专利 :CN104448113A ,2015-03-25

[5]

含硅193nm负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1834785A ,2006-09-20

[6]

一种星型ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物 [P].

季生象 ;

李小欧 ;

刘亚栋 ;

顾雪松 .

中国专利 :CN113219789A ,2021-08-06

[7]

含倍半萜的成膜树脂及其正性干法曝光193nm光刻胶 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

孙友松 ;

潘新刚 .

中国专利 :CN104448114A ,2015-03-25

[8]

一种193nm光刻胶树脂的制备方法 [P].

李三保 ;

聂俊 .

中国专利 :CN119613607B ,2025-12-05

[9]

光刻胶成膜树脂及其光刻胶组合物的制备方法 [P].

李永斌 ;

何龙龙 .

中国专利 :CN112679653B ,2021-04-20

[10]

一种193nm光刻胶树脂的制备方法 [P].

李三保 ;

聂俊 .

中国专利 :CN119613607A ,2025-03-14

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