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一种193nm分子玻璃光刻胶及其制备方法

被引：0
申请号：
CN202210082478.8
申请日：
2022-01-24
公开(公告)号：
CN114721221A
公开(公告)日：
2022-07-08
发明(设计)人：
曾伟
申请人：
申请人地址：
226661 江苏省南通市海安市曲塘镇双工路29号
IPC主分类号：
G03F7004
IPC分类号：
代理机构：
连云港中联润智专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 32572
代理人：
严敏
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-07-08 公开 公开
2022-07-26 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20220124
共 50 条
[1]
一种193nm光刻胶成膜树脂及其制备方法和正型光刻胶组合物 [P]. 
曾伟 .
中国专利 :CN114874384A ,2022-08-09
[2]
一种星型分子玻璃成膜树脂与光刻胶及其制备方法 [P]. 
曾伟 .
中国专利 :CN115685678A ,2023-02-03
[3]
一种二茂金属化合物的分子玻璃光刻胶及其制备方法 [P]. 
曾伟 .
中国专利 :CN114442429A ,2022-05-06
[4]
一种环糊精包合物分子玻璃光刻胶 [P]. 
曾伟 .
中国专利 :CN114779577A ,2022-07-22
[5]
193nm远紫外光刻胶及其制备方法 [P]. 
常磊 .
中国专利 :CN1869815A ,2006-11-29
[6]
193nm远紫外光刻胶及其制备方法 [P]. 
常磊 .
中国专利 :CN1869814A ,2006-11-29
[7]
一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法 [P]. 
顾大公 ;
许东升 ;
余绍山 ;
齐国强 ;
岳力挽 ;
马潇 ;
李珊珊 ;
毛智彪 ;
许从应 .
中国专利 :CN112876602A ,2021-06-01
[8]
一种193nm光刻胶树脂的制备方法 [P]. 
李三保 ;
聂俊 .
中国专利 :CN119613607B ,2025-12-05
[9]
一种193nm光刻胶树脂的制备方法 [P]. 
李三保 ;
聂俊 .
中国专利 :CN119613607A ,2025-03-14
[10]
一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用 [P]. 
方书农 ;
王溯 ;
耿志月 ;
崔中越 .
中国专利 :CN116144015B ,2024-11-19
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