量子点的后处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811611004.8

申请日：

2018-12-27

公开(公告)号：

CN111378447A

公开(公告)日：

2020-07-07

发明(设计)人：

程陆玲杨一行

申请人：

申请人地址：

516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区

IPC主分类号：

C09K1188

IPC分类号：

C09K1156 C09K1170 C09K1166 C09K1167 C09K1102 B82Y2000 B82Y3000 B82Y4000

代理机构：

深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414

代理人：

黄志云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-14	授权	授权
2020-07-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 11/88 申请日:20181227
2021-12-03	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):C09K 11/88 变更事项:申请人变更前:TCL集团股份有限公司变更后:TCL科技集团股份有限公司变更事项:地址变更前:516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区变更后:516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
2020-07-07	公开	公开

共 50 条

[1]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378448B ,2020-07-07

[2]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378427B ,2020-07-07

[3]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378449B ,2020-07-07

[4]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378426B ,2020-07-07

[5]

量子点的后处理方法及其制备方法 [P].

蒋畅 ;

程陆玲 .

中国专利 :CN113861963A ,2021-12-31

[6]

一种量子点的后处理方法 [P].

杨一行 ;

杨成玉 ;

刘政 ;

钱磊 ;

曹蔚然 .

中国专利 :CN106753330B ,2017-05-31

[7]

一种量子点的后处理方法 [P].

杨一行 ;

杨成玉 .

中国专利 :CN109385279A ,2019-02-26

[8]

量子点的后处理方法、制备方法及制得的量子点和应用 [P].

翁兴焕 ;

汪鹏生 ;

乔之勇 .

中国专利 :CN111718709A ,2020-09-29

[9]

量子点的后处理方法、制备方法及制得的量子点和应用 [P].

骆意勇 .

中国专利 :CN111548784A ,2020-08-18

[10]

一种InP量子点的后处理方法 [P].

聂志文 ;

杨一行 .

中国专利 :CN110616072A ,2019-12-27

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