一种量子点的后处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611083466.8

申请日：

2016-11-30

公开(公告)号：

CN106753330B

公开(公告)日：

2017-05-31

发明(设计)人：

杨一行杨成玉刘政钱磊曹蔚然

申请人：

申请人地址：

516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦

IPC主分类号：

C09K1102

IPC分类号：

C09K1188 C09K1156 C09K1170 B82Y2000 B82Y4000 C01G908

代理机构：

深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268

代理人：

王永文;刘文求

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-27	授权	授权
2017-05-31	公开	公开
2018-01-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 11/02 申请日:20161130
2020-10-20	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):C09K 11/02 变更事项:申请人变更前:TCL集团股份有限公司变更后:TCL科技集团股份有限公司变更事项:地址变更前:516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区变更后:516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦

共 50 条

[1]

一种量子点的后处理方法 [P].

杨一行 ;

杨成玉 .

中国专利 :CN109385279A ,2019-02-26

[2]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378448B ,2020-07-07

[3]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378426B ,2020-07-07

[4]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378427B ,2020-07-07

[5]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378449B ,2020-07-07

[6]

量子点的后处理方法 [P].

程陆玲 ;

杨一行 .

中国专利 :CN111378447A ,2020-07-07

[7]

一种InP量子点的后处理方法 [P].

聂志文 ;

杨一行 .

中国专利 :CN110616072A ,2019-12-27

[8]

一种油溶性量子点的后处理方法 [P].

陈开敏 .

中国专利 :CN113046054A ,2021-06-29

[9]

量子点的后处理方法及其制备方法 [P].

蒋畅 ;

程陆玲 .

中国专利 :CN113861963A ,2021-12-31

[10]

一种钙钛矿量子点的后处理方法 [P].

张烨威 ;

李延昊 ;

吴毅恒 ;

周建武 .

中国专利 :CN118126704A ,2024-06-04

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