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用于处理平面处理物的方法、处理站和设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201080021231.0
申请日
:
2010-05-12
公开(公告)号
:
CN102422728A
公开(公告)日
:
2012-04-18
发明(设计)人
:
亨利·孔策
申请人
:
申请人地址
:
德国柏林
IPC主分类号
:
H05K300
IPC分类号
:
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
王萍;李春晖
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-05-30
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101256116923 IPC(主分类):H05K 3/00 专利申请号:2010800212310 申请日:20100512
2012-04-18
公开
公开
2015-04-01
授权
授权
共 50 条
[1]
用于处理平面处理物的方法和设备以及用于去除或挡住处理液的装置
[P].
亨利·孔策
论文数:
0
引用数:
0
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0
亨利·孔策
;
费迪南德·维纳
论文数:
0
引用数:
0
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0
费迪南德·维纳
.
中国专利
:CN102422727A
,2012-04-18
[2]
处理液、被处理物的处理方法
[P].
杉岛泰雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
杉岛泰雄
.
日本专利
:CN120591037A
,2025-09-05
[3]
处理液、被处理物的处理方法
[P].
杉岛泰雄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
杉岛泰雄
.
日本专利
:CN114364779B
,2024-05-28
[4]
处理液、被处理物的处理方法
[P].
杉岛泰雄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
杉岛泰雄
.
日本专利
:CN121022522A
,2025-11-28
[5]
处理液、被处理物的处理方法
[P].
杉岛泰雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
杉岛泰雄
.
中国专利
:CN114364779A
,2022-04-15
[6]
处理液、被处理物的处理方法
[P].
杉岛泰雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
杉岛泰雄
.
中国专利
:CN114930505A
,2022-08-19
[7]
处理液、被处理物的处理方法
[P].
水谷笃史
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
水谷笃史
;
杉岛泰雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
杉岛泰雄
;
高桥智威
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
富士胶片株式会社
富士胶片株式会社
高桥智威
.
日本专利
:CN120958561A
,2025-11-14
[8]
处理处理液的方法和处理基材的设备
[P].
李升浩
论文数:
0
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0
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李升浩
;
朴贵秀
论文数:
0
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0
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0
朴贵秀
.
中国专利
:CN101404244A
,2009-04-08
[9]
处理装置和处理方法
[P].
藤田博
论文数:
0
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0
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藤田博
;
矶明典
论文数:
0
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0
矶明典
;
添田胜之
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添田胜之
;
西部幸伸
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西部幸伸
;
佐佐木真一
论文数:
0
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0
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0
佐佐木真一
.
中国专利
:CN103301992B
,2013-09-18
[10]
用于处理基板的设备和方法
[P].
金鹏
论文数:
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0
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金鹏
;
权五珍
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0
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权五珍
;
张成豪
论文数:
0
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张成豪
;
朴周缉
论文数:
0
引用数:
0
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0
朴周缉
.
中国专利
:CN103035551B
,2013-04-10
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