处理装置和处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310070532.8

申请日：

2013-03-06

公开(公告)号：

CN103301992B

公开(公告)日：

2013-09-18

发明(设计)人：

藤田博矶明典添田胜之西部幸伸佐佐木真一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B05C500

IPC分类号：

B05C1100 B05C1110 C03C1500 C03C1700

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

杨谦;胡建新

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-10-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101531535160 IPC(主分类):B05C 5/00 专利申请号:2013100705328 申请日:20130306
2013-09-18	公开	公开
2014-10-15	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101705941805 IPC(主分类):B05C 5/00 专利申请号:2013100705328 变更事项:申请人变更前权利人:株式会社东芝变更后权利人:株式会社东芝变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都变更事项:申请人变更前权利人:芝浦机械电子株式会社变更后权利人:无登记生效日:20140915
2016-12-28	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

川根旬平 ;

盐田明仁 ;

铃木聪 ;

山本悟史 .

中国专利 :CN101154566A ,2008-04-02

[2]

基片处理方法和基片处理装置 [P].

甲斐亚希子 .

中国专利 :CN112786484A ,2021-05-11

[3]

液处理装置和液处理方法 [P].

冈泽智树 ;

西山雄太 ;

飞松武志 .

日本专利 :CN111863658B ,2025-09-05

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

日本专利 :CN121011535A ,2025-11-25

[5]

液处理装置和液处理方法 [P].

冈泽智树 ;

西山雄太 ;

飞松武志 .

中国专利 :CN111863658A ,2020-10-30

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

滨岛悠太 ;

小杉仁 ;

菅野至 ;

野中纯 .

日本专利 :CN120826769A ,2025-10-21

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田義谦 ;

谷口裕树 ;

篠原和義 .

中国专利 :CN107026106B ,2017-08-08

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

日本专利 :CN112786485B ,2025-08-22

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

中国专利 :CN112786485A ,2021-05-11

[10]

基板处理装置和基板处理装置的清洗方法 [P].

东岛治郎 ;

绪方信博 ;

桥本佑介 .

中国专利 :CN106960807B ,2017-07-18

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