基板处理装置和基板处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN201611235722.0
申请日
2016-12-28
公开(公告)号
CN107026106B
公开(公告)日
2017-08-08
发明(设计)人
池田義谦 谷口裕树 篠原和義
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;张会华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
川根旬平 ;
盐田明仁 ;
铃木聪 ;
山本悟史 .
中国专利 :CN101154566A ,2008-04-02
[2]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
小佐井一树 ;
篠原和义 .
日本专利 :CN112786485B ,2025-08-22
[3]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
小佐井一树 ;
篠原和义 .
日本专利 :CN121011535A ,2025-11-25
[4]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
滨岛悠太 ;
小杉仁 ;
菅野至 ;
野中纯 .
日本专利 :CN120826769A ,2025-10-21
[5]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
小佐井一树 ;
篠原和义 .
中国专利 :CN112786485A ,2021-05-11
[6]
基板处理装置和基板处理装置的清洗方法 [P]. 
东岛治郎 ;
绪方信博 ;
桥本佑介 .
日本专利 :CN114256103B ,2025-11-04
[7]
基板处理装置和基板处理装置的清洗方法 [P]. 
东岛治郎 ;
绪方信博 ;
桥本佑介 .
中国专利 :CN106960807B ,2017-07-18
[8]
基板处理装置和基板处理装置的清洗方法 [P]. 
东岛治郎 ;
绪方信博 ;
桥本佑介 .
中国专利 :CN114256103A ,2022-03-29
[9]
基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P]. 
大塚庆崇 ;
中满孝志 .
中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06
[10]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
池田朋生 ;
日高章一郎 .
日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30