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基板处理装置和基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201611235722.0
申请日
:
2016-12-28
公开(公告)号
:
CN107026106B
公开(公告)日
:
2017-08-08
发明(设计)人
:
池田義谦
谷口裕树
篠原和義
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;张会华
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-07-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20161228
2021-10-26
授权
授权
2017-08-08
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
川根旬平
论文数:
0
引用数:
0
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0
川根旬平
;
盐田明仁
论文数:
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盐田明仁
;
铃木聪
论文数:
0
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铃木聪
;
山本悟史
论文数:
0
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0
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山本悟史
.
中国专利
:CN101154566A
,2008-04-02
[2]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
小佐井一树
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小佐井一树
;
篠原和义
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
篠原和义
.
日本专利
:CN112786485B
,2025-08-22
[3]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
小佐井一树
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小佐井一树
;
篠原和义
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
篠原和义
.
日本专利
:CN121011535A
,2025-11-25
[4]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
滨岛悠太
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
滨岛悠太
;
小杉仁
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小杉仁
;
菅野至
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菅野至
;
野中纯
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0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
野中纯
.
日本专利
:CN120826769A
,2025-10-21
[5]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
小佐井一树
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小佐井一树
;
篠原和义
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篠原和义
.
中国专利
:CN112786485A
,2021-05-11
[6]
基板处理装置和基板处理装置的清洗方法
[P].
东岛治郎
论文数:
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
东岛治郎
;
绪方信博
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
绪方信博
;
桥本佑介
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桥本佑介
.
日本专利
:CN114256103B
,2025-11-04
[7]
基板处理装置和基板处理装置的清洗方法
[P].
东岛治郎
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0
东岛治郎
;
绪方信博
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0
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0
绪方信博
;
桥本佑介
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0
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桥本佑介
.
中国专利
:CN106960807B
,2017-07-18
[8]
基板处理装置和基板处理装置的清洗方法
[P].
东岛治郎
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0
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0
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东岛治郎
;
绪方信博
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0
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0
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0
绪方信博
;
桥本佑介
论文数:
0
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0
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0
桥本佑介
.
中国专利
:CN114256103A
,2022-03-29
[9]
基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序
[P].
大塚庆崇
论文数:
0
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0
大塚庆崇
;
中满孝志
论文数:
0
引用数:
0
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中满孝志
.
中国专利
:CN1828828A
,2006-09-06
[10]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
池田朋生
论文数:
0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
池田朋生
;
日高章一郎
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
日高章一郎
.
日本专利
:CN110783228B
,2024-07-30
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