共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
基板处理装置和基板处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511106500.8
申请日：
2020-10-23
公开(公告)号：
CN121011535A
公开(公告)日：
2025-11-25
发明(设计)人：
小佐井一树
篠原和义
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/306
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
王小香;李靖
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-11-25 | 公开 | 公开 |
| 2025-12-12 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20201023 |