基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011147776.8

申请日：

2020-10-23

公开(公告)号：

CN112786485A

公开(公告)日：

2021-05-11

发明(设计)人：

小佐井一树篠原和义

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20201023

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

川根旬平 ;

盐田明仁 ;

铃木聪 ;

山本悟史 .

中国专利 :CN101154566A ,2008-04-02

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田義谦 ;

谷口裕树 ;

篠原和義 .

中国专利 :CN107026106B ,2017-08-08

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

日本专利 :CN112786485B ,2025-08-22

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

日本专利 :CN121011535A ,2025-11-25

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

滨岛悠太 ;

小杉仁 ;

菅野至 ;

野中纯 .

日本专利 :CN120826769A ,2025-10-21

[6]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P].

大塚庆崇 ;

中满孝志 .

中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田朋生 ;

日高章一郎 .

日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

田边万奈 ;

高居康介 ;

增井健二 ;

梅泽华织 .

日本专利 :CN111696884B ,2024-01-16

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

本田拓巳 ;

山下浩司 ;

田原真二 ;

百武宏展 .

日本专利 :CN110010520B ,2024-03-26

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

宫城雅宏 ;

佐藤雅伸 ;

荒木浩之 .

中国专利 :CN101145505A ,2008-03-19

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