共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
改善离子注入光刻层光刻胶形貌的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011201722.5
申请日：
2020-11-02
公开(公告)号：
CN112382562A
公开(公告)日：
2021-02-19
发明(设计)人：
孟晓莹
张彦伟
申请人：
申请人地址：
201315 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
IPC主分类号：
H01L21265
IPC分类号：
H01L21266
H01L218244
代理机构：
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人：
郭四华
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-02-19 | 公开 | 公开 |
| 2021-03-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/265 申请日:20201102 |