去除光刻胶层方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810113693.X

申请日：

2008-05-29

公开(公告)号：

CN101592873A

公开(公告)日：

2009-12-02

发明(设计)人：

魏莹璐吴国燕

申请人：

申请人地址：

100176北京市北京经济技术开发区文昌大道18号

IPC主分类号：

G03F726

IPC分类号：

G03F736 H01L2131 H01L21027

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

李丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-01-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-12-02	公开	公开
2012-04-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101330730098 IPC(主分类):G03F 7/26 专利申请号:200810113693X 公开日:20091202

共 50 条

[1]

去除光刻胶层的方法 [P].

吴杰 ;

唐在峰 ;

吴智勇 .

中国专利 :CN109065450A ,2018-12-21

[2]

去除光刻胶层的方法 [P].

韩秋华 ;

韩宝东 .

中国专利 :CN101651099A ,2010-02-17

[3]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[4]

光刻胶的去除方法 [P].

高腾飞 ;

荆泉 ;

孙建 ;

吕煜坤 ;

张旭昇 .

中国专利 :CN102968003A ,2013-03-13

[5]

光刻胶的去除方法 [P].

刘佑铭 .

中国专利 :CN101354542A ,2009-01-28

[6]

光刻胶去除方法 [P].

李丹 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN108281356B ,2018-07-13

[7]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[8]

去除光刻胶层的方法 [P].

刘焕新 ;

何永根 .

中国专利 :CN102902169A ,2013-01-30

[9]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[10]

光刻胶剥离去除方法 [P].

李中华 ;

李润领 ;

陆连 .

中国专利 :CN111308867A ,2020-06-19

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