检测辐射束的光刻设备和方法

被引：0

申请号：

CN202080067173.9

申请日：

2020-09-01

公开(公告)号：

CN114450636A

公开(公告)日：

2022-05-06

发明(设计)人：

G·因庞特 W·J·恩格伦 N·W·M·普兰茨

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

胡良均

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-06	公开	公开

共 50 条

[1]

检测辐射束的光刻设备和方法 [P].

G·因庞特 ;

W·J·恩格伦 ;

N·W·M·普兰茨 .

:CN114450636B ,2025-08-22

[2]

用于测量辐射束的方法和光刻设备 [P].

A·J·唐科布洛克 ;

Y·乔杜里 ;

M·H·F·詹森 .

:CN113439237B ,2025-04-08

[3]

用于测量辐射束的方法和光刻设备 [P].

A·J·唐科布洛克 ;

Y·乔杜里 ;

M·H·F·詹森 .

中国专利 :CN113439237A ,2021-09-24

[4]

光刻设备和修正光刻设备内的辐射束的方法 [P].

巴斯迪尔安·斯特凡努斯·亨德瑞克斯·詹森 ;

M·J·A·鲁宾 .

中国专利 :CN102540760B ,2012-07-04

[5]

光刻设备和方法 [P].

J·J·M·巴塞尔曼斯 ;

A·J·布理克尔 .

中国专利 :CN101681122B ,2010-03-24

[6]

光刻方法和设备 [P].

A·B·杰尤恩克 ;

拜尔拉克·摩艾斯特 ;

E·H·E·C·奥姆梅伦 ;

H·P·T·托尔斯马 .

中国专利 :CN111801619A ,2020-10-20

[7]

用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

G·C·德弗里斯 ;

简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ;

F·J·J·杰森 ;

N·A·J·M·范阿尔勒 .

中国专利 :CN102736444A ,2012-10-17

[8]

光刻设备和用于减小杂散辐射的方法 [P].

M·迪里希斯 ;

M·奥林斯 ;

H·范格瑞温伯诺克 ;

A·费尔韦 .

中国专利 :CN102460302B ,2012-05-16

[9]

投影系统、光刻设备、将辐射束投影到目标上的方法以及器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

R·德琼 ;

M·范德威吉斯特 ;

R·吐圣恩 ;

M·奥登耐蒙斯 ;

A·考沃埃特斯 .

中国专利 :CN102124412A ,2011-07-13

[10]

光刻设备和操作光刻设备的方法 [P].

金原淳一 ;

H·巴特勒 ;

P·C·H·德威特 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN112965341A ,2021-06-15

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