光刻设备和用于减小杂散辐射的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080025210.6

申请日：

2010-05-04

公开(公告)号：

CN102460302B

公开(公告)日：

2012-05-16

发明(设计)人：

M·迪里希斯 M·奥林斯 H·范格瑞温伯诺克 A·费尔韦

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-06-17	授权	授权
2012-05-16	公开	公开

共 50 条

[1]

确定杂散辐射的方法，光刻投影设备 [P].

H·M·马尔德 ;

M·H·P·莫尔斯 .

中国专利 :CN1497355A ,2004-05-19

[2]

用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

G·C·德弗里斯 ;

简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ;

F·J·J·杰森 ;

N·A·J·M·范阿尔勒 .

中国专利 :CN102736444A ,2012-10-17

[3]

辐射系统和光刻设备 [P].

德尔克·简·威尔弗雷德·克朗德尔 ;

马丁·玛瑞纳斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范荷彭 .

中国专利 :CN101322078A ,2008-12-10

[4]

光刻设备和光刻设备冷却方法 [P].

S·N·L·当德斯 .

中国专利 :CN102298268A ,2011-12-28

[5]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[6]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[7]

检测辐射束的光刻设备和方法 [P].

G·因庞特 ;

W·J·恩格伦 ;

N·W·M·普兰茨 .

:CN114450636B ,2025-08-22

[8]

检测辐射束的光刻设备和方法 [P].

G·因庞特 ;

W·J·恩格伦 ;

N·W·M·普兰茨 .

中国专利 :CN114450636A ,2022-05-06

[9]

光刻设备、衬底台和用于释放晶片的方法 [P].

A·J·布里克 ;

D·J·P·A·弗兰肯 ;

J·H·G·弗兰森 ;

J·T·G·M·范德万 ;

M·普特 ;

T·P·A·德维特 .

中国专利 :CN101563653A ,2009-10-21

[10]

用于测量辐射束的方法和光刻设备 [P].

A·J·唐科布洛克 ;

Y·乔杜里 ;

M·H·F·詹森 .

:CN113439237B ,2025-04-08

← 1 2 3 4 5 →