辐射系统和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680045796.6

申请日：

2006-12-05

公开(公告)号：

CN101322078A

公开(公告)日：

2008-12-10

发明(设计)人：

德尔克·简·威尔弗雷德·克朗德尔马丁·玛瑞纳斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范荷彭

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-12-29	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101058193997 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2006800457966 公开日:20081210
2009-02-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-12-10	公开	公开

共 50 条

[1]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[2]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[3]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN102289158B ,2011-12-21

[4]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

D·J·W·克伦德 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN1975581A ,2007-06-06

[5]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN102144192A ,2011-08-03

[6]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN101611351A ,2009-12-23

[7]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN104714374A ,2015-06-17

[8]

辐射系统和包括辐射系统的光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·拜尼恩 ;

J·C·L·弗兰肯 ;

O·W·V·弗吉恩斯 ;

D·J·W·克朗德尔 ;

N·M·德里森 ;

W·A·索尔 .

中国专利 :CN101583909B ,2009-11-18

[9]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊凡诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

D·J·W·科伦德尔 .

中国专利 :CN101584255A ,2009-11-18

[10]

EUV辐射系统和光刻设备 [P].

A·范帝杰赛欧东克 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN102472981B ,2012-05-23

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