EUV辐射系统和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080035014.7

申请日：

2010-07-14

公开(公告)号：

CN102472981B

公开(公告)日：

2012-05-23

发明(设计)人：

A·范帝杰赛欧东克 E·鲁普斯特拉

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-08	授权	授权
2012-05-23	公开	公开
2012-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101323125083 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800350147 申请日:20100714

共 50 条

[1]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[2]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN102289158B ,2011-12-21

[3]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN101611351A ,2009-12-23

[4]

辐射源和光刻设备 [P].

M·A·C·斯凯皮斯 ;

M·F·A·欧林斯 ;

F·J·J·杰森 ;

B·J·A·斯道米恩 ;

H·J·M·柯鲁维尔 ;

J·考亨 ;

H·帕特尔 ;

P·W·J·杰森 ;

M·K·J·伯恩 .

中国专利 :CN102819194B ,2012-12-12

[5]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

D·J·W·克伦德 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN1975581A ,2007-06-06

[6]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN102144192A ,2011-08-03

[7]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊凡诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

D·J·W·科伦德尔 .

中国专利 :CN101584255A ,2009-11-18

[8]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN104714374A ,2015-06-17

[9]

光刻系统、EUV辐射源、光刻扫描设备和控制系统 [P].

O·F·J·努德曼 ;

刚天 ;

R·P·范戈科姆 .

中国专利 :CN110462522B ,2019-11-15

[10]

源材料传输系统、EUV辐射系统、光刻设备及其方法 [P].

P·贝亚吉 ;

C·E·金尼 ;

B·罗林格 ;

J·M·卢肯斯 .

中国专利 :CN114846908A ,2022-08-02

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