辐射系统和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610163061.5

申请日：

2006-12-01

公开(公告)号：

CN1975581A

公开(公告)日：

2007-06-06

发明(设计)人：

M·M·J·W·范赫彭 D·J·W·克伦德 J·H·J·莫尔斯

申请人：

申请人地址：

荷兰费尔德霍芬

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

王小衡;王忠忠

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-24	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101043679984 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2006101630615 公开日:20070606
2008-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-06-06	公开	公开

共 50 条

[1]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN102289158B ,2011-12-21

[2]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN101611351A ,2009-12-23

[3]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN102144192A ,2011-08-03

[4]

辐射系统和光刻设备 [P].

德尔克·简·威尔弗雷德·克朗德尔 ;

马丁·玛瑞纳斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范荷彭 .

中国专利 :CN101322078A ,2008-12-10

[5]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN104714374A ,2015-06-17

[6]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊凡诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

D·J·W·科伦德尔 .

中国专利 :CN101584255A ,2009-11-18

[7]

EUV辐射系统和光刻设备 [P].

A·范帝杰赛欧东克 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN102472981B ,2012-05-23

[8]

辐射系统和包括辐射系统的光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·拜尼恩 ;

J·C·L·弗兰肯 ;

O·W·V·弗吉恩斯 ;

D·J·W·克朗德尔 ;

N·M·德里森 ;

W·A·索尔 .

中国专利 :CN101583909B ,2009-11-18

[9]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

[10]

辐射源和光刻设备 [P].

M·A·C·斯凯皮斯 ;

M·F·A·欧林斯 ;

F·J·J·杰森 ;

B·J·A·斯道米恩 ;

H·J·M·柯鲁维尔 ;

J·考亨 ;

H·帕特尔 ;

P·W·J·杰森 ;

M·K·J·伯恩 .

中国专利 :CN102819194B ,2012-12-12

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