辐射系统和包括辐射系统的光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780035599.0

申请日：

2007-09-25

公开(公告)号：

CN101583909B

公开(公告)日：

2009-11-18

发明(设计)人：

M·M·J·W·范赫彭 V·Y·拜尼恩 J·C·L·弗兰肯 O·W·V·弗吉恩斯 D·J·W·克朗德尔 N·M·德里森 W·A·索尔

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王新华

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-11-18	公开	公开
2011-07-20	授权	授权
2010-01-13	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

辐射系统和光刻设备 [P].

德尔克·简·威尔弗雷德·克朗德尔 ;

马丁·玛瑞纳斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范荷彭 .

中国专利 :CN101322078A ,2008-12-10

[2]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN102289158B ,2011-12-21

[3]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

D·J·W·克伦德 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN1975581A ,2007-06-06

[4]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN102144192A ,2011-08-03

[5]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊凡诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

D·J·W·科伦德尔 .

中国专利 :CN101584255A ,2009-11-18

[6]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN101611351A ,2009-12-23

[7]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN104714374A ,2015-06-17

[8]

EUV辐射系统和光刻设备 [P].

A·范帝杰赛欧东克 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN102472981B ,2012-05-23

[9]

碎片防止系统、辐射系统以及光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

W·A·索尔 ;

K·杰里森 .

中国专利 :CN101689030A ,2010-03-31

[10]

碎片减少系统、辐射源和光刻设备 [P].

M·瑞鹏 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

R·J·赫尔特门斯 .

中国专利 :CN109478026B ,2019-03-15

← 1 2 3 4 5 →