碎片减少系统、辐射源和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780045786.0

申请日：

2017-06-22

公开(公告)号：

CN109478026B

公开(公告)日：

2019-03-15

发明(设计)人：

M·瑞鹏 P·P·A·A·布洛姆 R·J·赫尔特门斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

胡良均

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	授权	授权
2019-08-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170622
2019-03-15	公开	公开

共 50 条

[1]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[2]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[3]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

[4]

辐射源和光刻设备 [P].

M·A·C·斯凯皮斯 ;

M·F·A·欧林斯 ;

F·J·J·杰森 ;

B·J·A·斯道米恩 ;

H·J·M·柯鲁维尔 ;

J·考亨 ;

H·帕特尔 ;

P·W·J·杰森 ;

M·K·J·伯恩 .

中国专利 :CN102819194B ,2012-12-12

[5]

辐射源和光刻设备 [P].

C·华格纳 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN103748968A ,2014-04-23

[6]

辐射源模块和光刻设备 [P].

H·帕特尔 ;

马悦 ;

G·纳基伯格鲁 ;

A·P·里杰普马 ;

A·J·范德内特 ;

R·H·弗黑斯 ;

阳宗全 .

中国专利 :CN110799904A ,2020-02-14

[7]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[8]

辐射源和光刻设备 [P].

H·斯希梅尔 ;

J·迪吉克斯曼 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103765998A ,2014-04-30

[9]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

G·G·祖卡维斯维里 ;

V·V·艾瓦诺夫 ;

K·N·科谢勒夫 ;

E·D·科罗布 ;

V·Y·班尼 ;

P·S·安特斯菲罗夫 .

中国专利 :CN1498056A ,2004-05-19

[10]

用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备 [P].

H-K·尼恩惠斯 .

中国专利 :CN105408817A ,2016-03-16

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