光刻设备和修正光刻设备内的辐射束的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110435849.8

申请日：

2011-12-22

公开(公告)号：

CN102540760B

公开(公告)日：

2012-07-04

发明(设计)人：

巴斯迪尔安·斯特凡努斯·亨德瑞克斯·詹森 M·J·A·鲁宾

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-06	授权	授权
2012-07-04	公开	公开
2012-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101322537453 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011104358498 申请日:20111222

共 50 条

[1]

检测辐射束的光刻设备和方法 [P].

G·因庞特 ;

W·J·恩格伦 ;

N·W·M·普兰茨 .

:CN114450636B ,2025-08-22

[2]

检测辐射束的光刻设备和方法 [P].

G·因庞特 ;

W·J·恩格伦 ;

N·W·M·普兰茨 .

中国专利 :CN114450636A ,2022-05-06

[3]

用于测量辐射束的方法和光刻设备 [P].

A·J·唐科布洛克 ;

Y·乔杜里 ;

M·H·F·詹森 .

:CN113439237B ,2025-04-08

[4]

用于测量辐射束的方法和光刻设备 [P].

A·J·唐科布洛克 ;

Y·乔杜里 ;

M·H·F·詹森 .

中国专利 :CN113439237A ,2021-09-24

[5]

光刻设备和用于校正光刻设备的台的位置的方法 [P].

H·巴特勒 ;

E·J·M·尤森 ;

W·H·G·A·考恩 ;

E·A·F·范德帕斯卡 ;

H·K·范德斯考特 ;

M·W·M·范德维基斯特 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

C·A·L·德霍恩 .

中国专利 :CN102163003A ,2011-08-24

[6]

光刻设备和制造光刻设备的方法 [P].

G·彼得斯 ;

T·W·波莱 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

W·J·博曼 ;

T·M·默德曼 ;

C·M·诺普斯 ;

B·斯米特斯 ;

K·斯蒂芬斯 ;

R·范德哈姆 .

中国专利 :CN106662822A ,2017-05-10

[7]

辐射系统和光刻设备 [P].

A·C·瓦森克 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

K·N·科什烈夫 ;

T·P·M·卡迪 ;

V·M·克里夫塔森 ;

D·J·W·克伦德尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

P·P·A·A·布洛姆 ;

W·A·索尔 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN102289158B ,2011-12-21

[8]

辐射系统和光刻设备 [P].

M·M·J·W·范赫彭 ;

D·J·W·克伦德 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN1975581A ,2007-06-06

[9]

辐射系统和光刻设备 [P].

V·Y·班尼恩 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

V·V·伊万诺夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN102144192A ,2011-08-03

[10]

辐射系统和光刻设备 [P].

德尔克·简·威尔弗雷德·克朗德尔 ;

马丁·玛瑞纳斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范荷彭 .

中国专利 :CN101322078A ,2008-12-10

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