光刻设备和用于校正光刻设备的台的位置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110048628.5

申请日：

2011-02-23

公开(公告)号：

CN102163003A

公开(公告)日：

2011-08-24

发明(设计)人：

H·巴特勒 E·J·M·尤森 W·H·G·A·考恩 E·A·F·范德帕斯卡 H·K·范德斯考特 M·W·M·范德维基斯特 M·M·P·A·沃梅尤恩 C·A·L·德霍恩

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-10-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101116510896 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011100486285 申请日:20110223
2014-09-03	授权	授权
2011-08-24	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备和校准光刻设备的位置测量系统的方法 [P].

汤姆·范祖特芬 .

:CN120615179A ,2025-09-09

[2]

用于光刻设备的支撑台和光刻设备 [P].

S·A·特姆普 ;

A·H·维尔魏 ;

A·A·索图特 ;

J·P·范德普尔 ;

M·C·J·巴根 .

中国专利 :CN110068991A ,2019-07-30

[3]

光刻设备和修正光刻设备内的辐射束的方法 [P].

巴斯迪尔安·斯特凡努斯·亨德瑞克斯·詹森 ;

M·J·A·鲁宾 .

中国专利 :CN102540760B ,2012-07-04

[4]

衬底台、光刻设备和操作光刻设备的方法 [P].

D·D·J·A·范索姆恩 ;

C·H·M·伯尔蒂斯 ;

H·S·布登贝格 ;

G·L·加托比焦 ;

J·C·P·梅尔曼 ;

G·纳基布奥格卢 ;

T·W·波莱 ;

W·T·M·斯托尔斯 ;

Y·J·G·范德费韦 ;

J·P·范利斯豪特 ;

J·A·维埃拉萨拉斯 ;

A·N·兹德拉夫科夫 .

中国专利 :CN113253577A ,2021-08-13

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

E·A·F·范德帕斯卡 ;

E·J·M·尤森 ;

E·R·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102072742B ,2011-05-25

[6]

衬底台、光刻设备和操作光刻设备的方法 [P].

D·D·J·A·范索姆恩 ;

C·H·M·伯尔蒂斯 ;

H·S·布登贝格 ;

G·L·加托比焦 ;

J·C·P·梅尔曼 ;

G·纳基布奥格卢 ;

T·W·波莱 ;

W·T·M·斯托尔斯 ;

Y·J·G·范德费韦 ;

J·P·范利斯豪特 ;

J·A·维埃拉萨拉斯 ;

A·N·兹德拉夫科夫 .

中国专利 :CN108604067A ,2018-09-28

[7]

位置测量系统和光刻设备 [P].

R·A·琼斯 ;

E·A·J·M·本特 .

:CN120112768A ,2025-06-06

[8]

位置测量系统和光刻设备 [P].

汉斯·布特勒 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼斯·弗朗西斯克斯·范德帕什 .

中国专利 :CN101424513B ,2009-05-06

[9]

光刻设备和操作光刻设备的方法 [P].

金原淳一 ;

H·巴特勒 ;

P·C·H·德威特 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN112965341A ,2021-06-15

[10]

光刻设备和操作光刻设备的方法 [P].

K·T·霍尔柯德 ;

R·F·德格拉夫 ;

H·詹森 ;

M·H·A·里德尔斯 ;

A·J·范德奈特 ;

P·J·克拉莫尔 ;

A·昆吉皮尔 ;

A·H·J·A·马坦斯 ;

S·范德格拉夫 ;

A·V·帕迪瑞 .

中国专利 :CN102033435B ,2011-04-27

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