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磷化铟基板、半导体外延晶片以及磷化铟基板的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080006105.1
申请日：
2020-06-04
公开(公告)号：
CN113207308A
公开(公告)日：
2021-08-03
发明(设计)人：
冈俊介
栗田英树
铃木健二
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
H01L2102
IPC分类号：
代理机构：
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：
吕琳;朴秀玉
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-08-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20200604 |
| 2021-08-03 | 公开 | 公开 |