界面表面的远程等离子处理

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080026155.2

申请日：

2010-06-02

公开(公告)号：

CN102804338A

公开(公告)日：

2012-11-28

发明(设计)人：

乔治·安德鲁·安东内利珍妮弗·奥洛克林托尼·哈维尔曼蒂阿姆·斯里拉姆巴特·范施拉维迪克维什瓦纳坦·兰加拉扬塞莎赛义·瓦拉达拉扬布赖恩·L·巴卡柳

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

沈锦华

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-22	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101734388721 IPC(主分类):H01L 21/205 专利申请号:2010800261552 申请公布日:20121128
2013-01-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101383325501 IPC(主分类):H01L 21/205 专利申请号:2010800261552 申请日:20100602
2012-11-28	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

一野贵雅 ;

近藤勇树 .

日本专利 :CN119905448A ,2025-04-29

[2]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

福地功祐 ;

朝仓凉次 ;

江藤宗一郎 ;

冈本翔 ;

臼井建人 ;

中元茂 .

中国专利 :CN114360993A ,2022-04-15

[3]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

福地功祐 ;

朝仓凉次 ;

江藤宗一郎 ;

冈本翔 ;

臼井建人 ;

中元茂 .

日本专利 :CN114360993B ,2025-03-25

[4]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

一野贵雅 ;

近藤勇树 .

日本专利 :CN115398602B ,2025-02-21

[5]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

一野贵雅 ;

近藤勇树 .

中国专利 :CN115398602A ,2022-11-25

[6]

半导体器件制造方法、等离子处理设备及等离子处理方法 [P].

有田洁 .

中国专利 :CN1329974C ,2005-11-02

[7]

表面等离子处理设备 [P].

杨晓东 ;

吴亚静 ;

王晨 .

中国专利 :CN117963418A ,2024-05-03

[8]

等离子处理方法 [P].

福地功祐 ;

朝仓凉次 ;

江藤宗一郎 ;

冈本翔 ;

臼井建人 ;

中元茂 .

日本专利 :CN120072678A ,2025-05-30

[9]

等离子喷头及等离子表面处理设备 [P].

赵芝强 .

中国专利 :CN209330445U ,2019-08-30

[10]

一种竹面的等离子表面处理设备 [P].

陈德林 ;

陈名轩 .

中国专利 :CN120533799A ,2025-08-26

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