酸性铜电镀浴以及用于电镀低内应力和优良延展性的铜沉积物的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610224165.6
申请日
2016-04-12
公开(公告)号
CN106086954A
公开(公告)日
2016-11-09
发明(设计)人
L·魏 R·阿兹布鲁克 B·利布 Y-H·高 M·列斐伏尔 R·A·科罗纳
申请人
申请人地址
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
C25D338
IPC分类号
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
陈哲锋;胡嘉倩
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 18 条
[1]
酸性铜电镀浴以及用于电镀低内应力和优良延展性的铜沉积物的方法 [P]. 
L·魏 ;
Y·H·高 ;
R·阿兹布鲁克 ;
R·科罗纳 ;
M·列斐伏尔 .
中国专利 :CN106521571A ,2017-03-22
[2]
低内应力的铜电镀方法 [P]. 
G·R·奥拉德伊斯 ;
G·哈姆 ;
N·卡拉亚 .
中国专利 :CN102995075A ,2013-03-27
[3]
在薄膜衬底上电镀低内应力铜沉积物以抑制翘曲的方法 [P]. 
Y·H·高 ;
L·魏 ;
L·戈麦斯 ;
M·列斐伏尔 .
中国专利 :CN106757192A ,2017-05-31
[4]
用于电解沉积锻纹镍沉积物的酸电镀浴及方法 [P]. 
沃尔夫冈·达姆斯 ;
克劳斯-迪特尔·舒尔茨 ;
托马斯·莫里茨 .
中国专利 :CN1656255A ,2005-08-17
[5]
低聚吩嗪鎓化合物的混合物及用于电解沉积铜沉积物的酸浴 [P]. 
海科·布伦纳 ;
沃尔夫冈·达姆斯 ;
托马斯·莫里茨 ;
乌多·格里泽 ;
阿基夫·厄兹柯克 .
中国专利 :CN1729312A ,2006-02-01
[6]
含有胺和醌的反应产物的化合物的铜电镀浴 [P]. 
吕伟静 ;
段铃丽 ;
Z·尼亚齐姆贝托瓦 ;
陈晨 ;
M·瑞兹尼克 .
中国专利 :CN108026128A ,2018-05-11
[7]
一种酸浴、铜沉积物及均镀剂的制备方法 [P]. 
张志恒 .
中国专利 :CN114086223A ,2022-02-25
[8]
用于电解沉积铜沉积物的含有卤化或拟卤化的单体吩嗪鎓化合物的酸浴 [P]. 
海科·布伦纳 ;
沃尔夫冈·达姆斯 ;
乌多·格里泽(已故) .
中国专利 :CN1882550A ,2006-12-20
[9]
银电镀组合物和用于电镀具有低摩擦系数的银的方法 [P]. 
尹荣敏 ;
M·A·罗德里格斯 ;
M·利普舒兹 ;
J·Y·C·陈 ;
K·格里芬 .
美国专利 :CN115125591B ,2024-11-01
[10]
银电镀组合物和用于电镀具有低摩擦系数的银的方法 [P]. 
尹荣敏 ;
M·A·罗德里格斯 ;
M·利普舒兹 ;
J·Y·C·陈 ;
K·格里芬 .
中国专利 :CN115125591A ,2022-09-30